litografia EUV

Fotorezyst rzadko trafia na pierwszy plan, ale bez niego nie ma ani litografii w EUV, ani stabilnej produkcji najnowszych układów. Dlatego decyzja JSR Corporation, aby po latach zwłoki uruchomić własne zaplecze w Tajwanie bliżej TSMC, mówi o branży więcej niż kolejna prezentacja procesu technologicznego. Przewagę coraz częściej buduje się już nie samym węzłem, lecz logistyką, tempem walidacji i dostępem do inżynierów klienta.

Rzadko zdarza się, aby o przyszłości chipów i elektroniki decydował surowiec kojarzony z balonami imprezowymi i rezonansem magnetycznym. Tym razem właśnie on wrócił na pierwszy plan. Rakierowe uderzenia Iranu na katarskie Ras Laffan wywołały nerwowość nie tylko na rynku energii, ale też w branży półprzewodników, która od lat buduje coraz droższe fabryki na fundamencie zaskakująco kruchego łańcucha dostaw.

Przemysł półprzewodnikowy od dekad szuka sposobów na przyspieszenie produkcji chipów bez konieczności wymiany całych linii technologicznych. Belgijskie centrum badawcze IMEC ogłosiło wyniki, które mogą zmienić podejście producentów do jednego z kluczowych etapów litografii EUV - wygrzewania po ekspozycji rezystów. Odkrycie jest zaskakująco proste w realizacji, lecz jego potencjalne skutki dla przepustowości i kosztów produkcji mogą okazać się niemałe.

ASML zaprezentował technologię, która może na dobre zakończyć dyskusje o konkurencji ze strony amerykańskich i chińskich startupów. Inżynierom z kalifornijskiego ośrodka badawczego firmy udało się zwiększyć moc źródła światła EUV z obecnych 600 do 1000 watów, co przekłada się na potencjalny wzrost przepustowości fabryk chipów nawet o 50 proc. do końca dekady. To nie laboratoryjny eksperyment, ale gotowe rozwiązanie spełniające wszystkie wymagania produkcyjne.

Japoński rynek półprzewodników, niegdyś potęga, która w latach 80. kontrolowała ponad połowę światowej produkcji, próbuje odzyskać utraconą pozycję. Podstawą ma być Rapidus, foundry wspierany przez największe japońskie korporacje i rząd w Tokio. Firma nie zamierza bawić się w półśrodki. Omija starsze procesy technologiczne i celuje prosto w produkcję chipów 2 nm. Czy to oznacza realną szansę na konkurowanie z TSMC?

ASML Holding, holenderska firma będąca jedynym na świecie producentem zaawansowanych maszyn do litografii EUV, ogłosiła redukcję zatrudnienia obejmującą około 1700 stanowisk. Decyzja ta pada w momencie, gdy spółka prezentuje rekordowe wyniki finansowe oraz portfel zamówień dwukrotnie przekraczający prognozy analityków. Cięcia mają objąć przede wszystkim kadry kierownicze w Holandii, a także w Stanach Zjednoczonych.

Firma ASML właśnie przekroczyła magiczną barierę 500 mld dolarów kapitalizacji rynkowej, stając się trzecią europejską spółką w historii, która osiągnęła tę wartość po Novo Nordisk i LVMH. Akcje producenta zaawansowanych maszyn litograficznych EUV podskoczyły o ponad 5 proc., po tym jak tajwański TSMC, największy klient ASML, zapowiedział rekordowe nakłady inwestycyjne przewyższające oczekiwania analityków o niemal jedną piątą.

Przemysł półprzewodników poszukuje innowacji, które pozwolą na szybszą, tańszą i precyzyjniejszą produkcję układów scalonych. Rozwój technologii litograficznych, takich jak EUV, napotyka bariery związane z kosztami i złożonością. Nowe podejścia, wykorzystujące zaawansowane akceleratory cząstek, mogą zrewolucjonizować procesy produkcyjne. Firma Inversion Semiconductor proponuje rozwiązanie, które łączy miniaturyzację akceleratorów z potężnymi laserami.