Zgłoś błąd
X
Zanim wyślesz zgłoszenie, upewnij się że przyczyną problemów nie jest dodatek blokujący reklamy.
Błędy w spisie treści artykułu zgłaszaj jako "błąd w TREŚCI".
Typ zgłoszenia
Treść zgłoszenia
Twój email (opcjonalnie)
Nie wypełniaj tego pola
Załóż konto
EnglishDeutschукраїнськийFrançaisEspañol中国

DUV

Chiny mają już własną pamięć LPDDR6 i interesuje się nią nawet Apple, choć Waszyngtonowi to się nie podoba

Chiny mają już własną pamięć LPDDR6 i interesuje się nią nawet Apple, choć Waszyngtonowi to się nie podoba

CXMT kończy kolejny etap prac nad pamięciami LPDDR6. Według chińskich mediów pierwszy układ firmy przeszedł weryfikację R&D i czeka go już tylko test małoseryjny przed pełną produkcją. Za tą wiadomością stoi coś więcej niż kolejny chiński start w wyścigu pamięci mobilnej. CXMT ledwie kilka lat po debiucie LPDDR5 depcze po piętach firmom SK hynix i Samsung wykorzystując lukę, jaką zostawili producenci skupieni na HBM.

Shanghai Aishengna rusza z produkcją immersyjnych skanerów DUV. SMIC, Hua Hong i CXMT pierwsze na liście odbiorców

Shanghai Aishengna rusza z produkcją immersyjnych skanerów DUV. SMIC, Hua Hong i CXMT pierwsze na liście odbiorców

Zidentyfikowano spółkę stojącą za chińskim programem budowy własnych skanerów litograficznych DUV. Jest nią Shanghai Aishengna. Informacja wywołała spore poruszenie na azjatyckich giełdach, bo dotyczy technologii, którą od lat kontroluje niemal wyłącznie ASML. Chińska maszyna korzysta z immersyjnej litografii i argonowo-fluorkowego lasera o długości fali 193 nanometrów. Dokładnie takiej klasy sprzętu, jaki koncern z Veldhoven sprzedaje od dwóch dekad.

Szef Zeiss: bez maszyn EUV Chiny utkną na komercyjnym pułapie 7 nm, a wielokrotne naświetlanie DUV nie zastąpi fizyki

Szef Zeiss: bez maszyn EUV Chiny utkną na komercyjnym pułapie 7 nm, a wielokrotne naświetlanie DUV nie zastąpi fizyki

Amerykańskie i unijne restrykcje eksportowe od lat odcinają chińskie fabryki od holenderskich skanerów EUV produkowanych przez ASML i niemieckiej optyki Zeiss, bez której te maszyny w ogóle nie powstają. SMIC i inni chińscy producenci radzą sobie, wyciskając z dziesięcioletnich maszyn DUV znacznie więcej, niż te urządzenia miały kiedykolwiek robić. Frank Rohmund z firmy Zeiss, ocenił niedawno, dokąd ta droga faktycznie prowadzi i gdzie się kończy.

Nikon chce uderzyć w ASML ceną. Japończycy celują w segment ArF immersion, ale nie ruszają monopolu EUV

Nikon chce uderzyć w ASML ceną. Japończycy celują w segment ArF immersion, ale nie ruszają monopolu EUV

Bardzo ciekawie brzmi deklaracja Nikona, który chce odzyskać klientów TSMC nie za pomocą wielkiej rewolucji technologicznej, lecz starą, brutalnie skuteczną metodą, czyli niższą ceną. To ruch o tyle interesujący, że nie dotyczy segmentu EUV, gdzie Holendrzy trzymają wszystkich za gardło, ale litografii ArF immersion. A to nadal sprzęt niezbędny dla zaawansowanej produkcji, zwłaszcza przy multiple patterning, pamięciach i coraz bardziej złożonych układach 3D.

Richard Chang o strategii SMIC. Mniej pogoni za 3 nm i 2 nm, więcej nacisku na dojrzałe procesy oraz nisze przemysłowe

Richard Chang o strategii SMIC. Mniej pogoni za 3 nm i 2 nm, więcej nacisku na dojrzałe procesy oraz nisze przemysłowe

Nagłówki o litografiach 3 nm i 2 nm klikają się świetnie, ale dla fabryk jest to tylko część problemu. Richard Chang, założyciel Semiconductor Manufacturing International Corporation, przekonuje, że branża za bardzo skupia się na wyścigu o najniższy proces technologiczny. W praktyce równie ważne są dziś sankcje, koszty i uzysk produkcji, bo to one decydują, czy nowa technologia ma sens biznesowy, czy jedynie jest to slogan marketingowy.

Chińscy inżynierowie rzekomo uszkodzili maszynę litograficzną ASML DUV podczas próby inżynierii wstecznej

Chińscy inżynierowie rzekomo uszkodzili maszynę litograficzną ASML DUV podczas próby inżynierii wstecznej

Eksportowe ograniczenia nałożone przez USA i Holandię odcięły chińskie fabryki chipów od najnowocześniejszego sprzętu EUV, pozostawiając im dostęp jedynie do starszych, ale wciąż przydatnych systemów DUV. Według nieoficjalnych doniesień desperacja w pozyskaniu wiedzy technologicznej mogła doprowadzić do incydentu, który rzuca nowe światło na metody stosowane przez chińskich producentów w dążeniu do samowystarczalności technologicznej.

Chiński SMIC wykorzystuje wielokrotne wzorowanie DUV do produkcji układów Kirin 5 nm dla przyszłych smartfonów Huawei

Chiński SMIC wykorzystuje wielokrotne wzorowanie DUV do produkcji układów Kirin 5 nm dla przyszłych smartfonów Huawei

Huawei kontynuuje rozwój własnych układów mobilnych mimo ograniczeń wynikających z braku dostępu do zaawansowanej litografii. W planach jest nowy procesor w procesie technologicznym 5 nm, który może w przyszłości trafić do flagowych smartfonów tej marki. Choć projekt nabiera kształtów, na komercyjny debiut trzeba będzie jeszcze poczekać. Temat budzi duże zainteresowanie, ponieważ może wpłynąć na przyszłość całego rynku urządzeń mobilnych.

x Wydawca serwisu PurePC.pl informuje, że na swoich stronach www stosuje pliki cookies (tzw. ciasteczka). Kliknij zgadzam się, aby ta informacja nie pojawiała się więcej. Kliknij polityka cookies, aby dowiedzieć się więcej, w tym jak zarządzać plikami cookies za pośrednictwem swojej przeglądarki.