TWINSCAN EXE:5200B
SK hynix jako pierwszy komercyjnie wykorzysta litografię High-NA EUV firmy ASML do produkcji pamięci DRAM nowej generacji
Producenci chipów dążą do zmniejszania rozmiarów tranzystorów, co pozwala na tworzenie wydajniejszych i energooszczędnych układów. Istotną rolę w tym procesie odgrywa litografia w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV). Okazuje się jednak, że dotychczasowe rozwiązania powoli osiągają swoje granice. Na horyzoncie pojawia się nowa generacja tej technologii, która ma otworzyć drzwi do produkcji komponentów w jeszcze niższych procesach technologicznych.
20 urodziny PurePC! Mega konkurs z nagrodami. Do wygrania karta graficzna, procesory, RAM, SSD, monitor, peryferia i wiele więcej
Test wydajności 007 First Light - Jaka karta graficzna do tajnych misji? Kuzyn Borewicza ma duże wymagania
Test chińskiej karty graficznej Moore Threads MTT S80 - Niewiele oczekiwałem i jeszcze mniej dostałem. Dramat w trzech aktach
Test wydajności Gothic Remake - Wymagania sprzętowe niczym magiczna bariera? Bez mocnego sprzętu lepiej nie podchodź
Test kart graficznych AMD Radeon RX 9070 GRE vs NVIDIA GeForce RTX 5070 - Trochę za późno, trochę za słabo, trochę za drogo