Intel jako pierwszy wykorzystuje technologię High NA EUV przy procesorach Panther Lake. TSMC się wstrzymuje

ASML rzadko chwali się szczegółami produkcyjnymi klientów, ale tym razem zrobiło wyjątek. Intel Foundry zaczął wykorzystywać najdroższe i najbardziej wyczekiwane maszyny litograficzne świata do produkcji realnych, sprzedawanych procesorów. Chodzi o Core Ultra Series 3, znane szerzej jako Panther Lake, budowane na węźle Intel 18A w fabryce w Oregonie. Do tej pory High NA EUV istniało głównie w laboratoriach i materiałach prasowych.

Intel jako pierwszy producent układów scalonych uruchamia masową produkcję procesorów z użyciem litografii High NA EUV, wyprzedzając TSMC o kilka lat i podnosząc stawkę w wyścigu technologicznym z ASML.

Które procesory Intel Nova Lake wykorzystają proces Intel 18A-P, a które TSMC N2P? Nowe informacje wskazują na konkretne SKU

Intel Foundry naświetla wybrane warstwy procesorów Panther Lake na skanerach TWINSCAN EXE wykorzystujących litografię High NA EUV. Wyższa apertura numeryczna układu optycznego (soczewki skanera potrafią zebrać i skupić więcej promieniowania pod szerszym kątem) pozwala odwzorowywać mniejsze elementy na krzemie bez wielokrotnego naświetlania. ASML podaje, że wydajność tych warstw dorównuje już standardowym skanerom EUV z serii NXE. To ważne, bo pojedyncza maszyna EXE kosztuje około 400 mln dolarów, czyli blisko dwa razy więcej niż klasycznie stosowany skaner EUV.

Intel Starfire - nadchodzą kosmiczne procesory. Wytrzymałość, AI i niski pobór mocy - to ich główne wartości

Intel odebrał pierwszy komercyjny system High NA EUV w 2024 roku, a później jako pierwszy zainstalował model TWINSCAN EXE:5200B z mocniejszym źródłem światła i dokładniejszym pozycjonowaniem warstw. Technologia trafiła do procesu 18A, który łączy tranzystory RibbonFET (GAA) z tylnym dostarczaniem zasilania PowerVia. TSMC uważa, że High NA nie będzie potrzebne przed węzłami A12/A13 około 2029 roku, choć wykorzystuje te maszyny do badań. Samsung również testuje tę technologię, ale to Intel jako pierwszy wprowadza do sprzedaży układ wyprodukowany z użyciem High NA EUV.