Intel 18A - Omówienie nowej litografii dla procesorów Panther Lake. Lepsza efektywność energetyczna dzięki RibbonFET i PowerVia

O litografii Intel 18A krążyło w sieci wiele doniesień i plotek, często sprzecznych ze sobą. Teraz jednak Intel oficjalnie zaprezentował tę technologię, potwierdzając większość wcześniejszych przewidywań dotyczących wzrostu wydajności i lepszej efektywności energetycznej. Nowy proces ma być jednym z kluczowych etapów w strategii odbudowy pozycji firmy na rynku półprzewodników. Sprawdźmy więc, co dokładnie przygotował Intel i jakie nowości wprowadza proces 18A.

Litografia Intel 18A ma zapewnić do 15% wyższą wydajność obliczeniową lub nawet 25% lepszą efektywność energetyczną w porównaniu z procesem Intel 3. Co istotne, mimo wprowadzenia nowych rozwiązań technologicznych, koszt produkcji pozostaje tylko nieznacznie wyższy od poprzedniej generacji.

Intel Panther Lake - Oficjalna zapowiedź nowych procesorów dla laptopów. Cougar Cove, Darkmont i Xe3 na pokładzie

Litografia Intel 18A wykorzystuje nowoczesną konstrukcję tranzystorów RibbonFET (odpowiednik architektury GAA – Gate-All-Around) oraz opracowany przez Intela system zasilania od spodu chipu PowerVia - widoczny w dolnej części układu, pod IHS. To pierwsze na świecie zastosowanie takiego rozwiązania w produkcji procesorów. Technologia PowerVia umożliwia zwiększenie gęstości upakowania układów logicznych o około 10% oraz redukcję spadku napięcia między źródłem zasilania a tranzystorami o 30%, co przekłada się na znacznie lepszą efektywność energetyczną. Dodatkowo PowerVia upraszcza proces produkcyjny - liczba wymaganych masek litograficznych spadła o 44%, a liczba naświetlań o 42%. W efekcie, mimo że zastosowanie zasilania od spodu chipu generuje wyższe koszty, są one równoważone przez zmniejszenie wymiarów technologicznych i uproszczenie procesu produkcji.

Intel Panther Lake - omówienie mikroarchitektury Cougar Cove i Darkmont, a także usprawnień dla Thread Director

Intel zapowiada, że proces Intel 18A zapewnia wyższe częstotliwości taktowania oraz do 15% lepszą wydajność na wat w porównaniu z procesem Intel 3 (~4/5 nm). Przy zachowaniu tej samej wydajności nowa litografia umożliwia natomiast redukcję poboru mocy do 25%. Firma zaprezentowała również wykres pokazujący znaczący spadek liczby defektów w procesie 18A, choć trudno ocenić rzeczywistą skalę poprawy, ponieważ wykres nie zawiera skali ani wartości liczbowych. Warto dodać, że Intel 18A wykorzystuje maszyny Low-NA EUV, natomiast jego następca - Intel 14A - będzie już korzystał z technologii High-NA EUV. Obecnie produkcja układów w litografii Intel 18A odbywa się w dwóch zakładach w Arizonie.