fotorezyst

Fotorezyst rzadko trafia na pierwszy plan, ale bez niego nie ma ani litografii w EUV, ani stabilnej produkcji najnowszych układów. Dlatego decyzja JSR Corporation, aby po latach zwłoki uruchomić własne zaplecze w Tajwanie bliżej TSMC, mówi o branży więcej niż kolejna prezentacja procesu technologicznego. Przewagę coraz częściej buduje się już nie samym węzłem, lecz logistyką, tempem walidacji i dostępem do inżynierów klienta.

Przemysł półprzewodnikowy od dekad szuka sposobów na przyspieszenie produkcji chipów bez konieczności wymiany całych linii technologicznych. Belgijskie centrum badawcze IMEC ogłosiło wyniki, które mogą zmienić podejście producentów do jednego z kluczowych etapów litografii EUV - wygrzewania po ekspozycji rezystów. Odkrycie jest zaskakująco proste w realizacji, lecz jego potencjalne skutki dla przepustowości i kosztów produkcji mogą okazać się niemałe.