ASML pracuje nad nowymi maszynami do litografii EUV

Wiceprezes ASML, Anthony Yen, ogłosił, że jego firma rozpoczęła opracowywanie maszyny do litografii w skrajnym ultrafiolecie (EUV). Ma ona ma zastąpić dzisiejszą generację maszyn, która zbliża się już do granic swoich możliwości. ASML jest holenderską firmą i obecnie największym dostawcą w świecie systemów fotolitograficznych dla przemysłu półprzewodników. Firma produkuje maszyny do produkcji układów scalonych. W międzyczasie firma poprawia możliwości swojej serii 3400. Nowa wersja, model 3400C, zostanie wydana w drugiej połowie 2019 roku i będzie mogła produkować 170 wafli na godzinę. ASML spodziewa się dostarczyć 18 maszyn jeszcze do końca 2018 roku, a w 2019 roku ma być to 30 sztuk.

Warto tu wspomnieć, że w tym tygodniu miał miejsce pożar w fabryce Prodrive, jednego z jego dostawców ASML. Koncern poinformował już, że spowoduje to opóźnienie niektórych dostaw na początku przyszłego roku.

ASML 5000 posiada kilka ulepszeń w porównaniu do maszyn z serii 3400, z których korzystają teraz klienci tacy jak Intel, Samsung i TSMC. Najbardziej zauważalny będzie wzrost apertury numerycznej maszyny z dzisiejszych 0.33 do 0.55. Apertura numeryczna określa możliwość efektywnego wykorzystania obiektywu dla uzyskania obrazu o możliwie największej ilości szczegółów. Krótko mówiąc większa apertura liczbowa oznacza lepszą rozdzielczość. Oczywiście zmiana apertury numerycznej w urządzeniu EUV będzie wymagać większego zestawu szkieł i luster, które będą musiały być lepiej wypolerowane.

TSMC stawia na litografię 7 nm. Także z wykorzystaniem EUV

ASML zwiększył też liczbę płytek, które jego maszyny mogą przetwarzać w ciągu godziny. Stało się tak dzięki generowaniu większej mocy światła. Większa moc oznacza, że wafel można eksponować krócej, więc proces jest szybszy niż wcześniej. Przy mocy 195 watów można było zrobić 125 wafli na godzinę; 246 W pozwala na 140 wafli na godzinę. Ale maszyna nowej generacji będzie potrzebować jeszcze większej mocy. W laboratorium ASML udało się osiągnąć 410 W. Pomocne będą także mocniejsze lasery. W dzisiejszych urządzeniach krople cyny są wystrzeliwane 50 000 razy na sekundę, ale firma twierdzi, że generator kropel może działać przy 80 000 Hz.

Samsung produkuje już chipy 7nm LPP z wykorzystaniem EUV

Światło EUV jest generowane przez celowanie w małe kropelki cyny za pomocą podwójnych impulsów lasera molekularnego na dwutlenku węgla (laser CO2) o dużej mocy. Pierwszy impuls przekształca kroplę cyny w coś o kształcie "naleśnika". Drugi, który jest mocniejszy i podąża za pierwszym zaledwie o 3 mikrosekundy później, zamienia cynę w mgiełkę i przekształca ją w plazmę świecąca światłem o fali 13,5 nanometra. Światło jest następnie zbierane, skupiane i odbijane tak, że wzór jest rzutowany na płytkę krzemową.