Zgłoś błąd

X

Zanim wyślesz zgłoszenie, upewnij się że przyczyną problemów nie jest dodatek blokujący reklamy.

Typ zgłoszenia
Treść zgłoszenia
Twój email (opcjonalnie)
Nie wypełniaj tego pola
.
Załóż konto
EnglishDeutschРусскийFrançaisEspañol中国
 

Samsung produkuje już chipy 7nm LPP z wykorzystaniem EUV

Bogdan Stech | 19-10-2018 14:00 |

Samsung produkuje już chipy 7nm LPP z wykorzystaniem EUVSamsung rozpoczyna masową produkcję chipów zbudowanych w 7-nanometrowym procesie Low Power Plus przy wykorzystaniu technologii skrajnego ultrafioletu EUV. Linia produkcyjna układów 7 nm Samsunga - jak zapewnia firma - jako pierwsza na świecie wykorzystuje litografię ultrafioletową do wprowadzania obwodów na płyty krzemowe. Pozwoli to znacznie zwiększyć gęstość tranzystorów w układach, jednocześnie optymalizując zużycie energii. "Zrobiliśmy cichą rewolucję w branży półprzewodników. To zmieni rynek urządzeń mobilnych " - twierdzi Charlie Bae, wiceprezes w Samsung Electronics. I nie są to słowa na wyrost skoro układy mają faktycznie pracować szybciej przy dużo mniejszym zużyciu baterii,

Extreme Ultraviolet Lithography wykorzystuje w procesie technologicznym światło o długości fali 13,5 nm

Samsung produkuje już chipy 7nm LPP z wykorzystaniem EUV [2]

Litografia Extreme Ultraviolet Lithography - EUV tłumaczona jest na język polski jako litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie lub skrajnego ultrafioletu. EUV zapewnia wyższą wydajność, mniejszy pobór mocy i mniejszy rozmiar układu. Nowoczesne chipy z reguły mają wymiary rzędu nanometrów, a ich wytwarzanie jest możliwe tylko z wykorzystaniem skomplikowanych procesów naświetlania za pomocą laserów. Obecnie konwencjonalna technologia wykorzystująca lasery ekscymerowe, emitujące promieniowanie laserowe z zakresu ultrafioletu osiąga granice swoich możliwości. Nie pozwalają one na tworzenie struktur o wielkości poniżej 10 nm. Tak miniaturowe struktury wymagają naświetlania promieniowaniem o jeszcze krótszej długości fali. Oznacza to wejście w zakres skrajnego ultrafioletu (EUV). W porównaniu do swoich 10 nm poprzedników wykonanych w procesie FinFET, technologia 7 nm LPP (Low Power Plus) firmy Samsung zapewnia do 40 procentowe zmniejszenie układu przy 20 procentowym wzroście wydajności i 50 procentowym zmniejszeniu zużycia energii.

Samsung z rekordowym zyskiem. Najlepiej zarabia na pamięciach

Samsung produkuje już chipy 7nm LPP z wykorzystaniem EUV [1]

Badania i rozwój EUV rozpoczęły się w firmie Samsung w 2000 roku. Koncern nie ukrywa, że osiągnął postępy w tej dziedzinie dzięki licznym partnerstwom z innymi przedsiębiorstwami. Oczywiście uruchomienie procesu produkcji wymagało nie tylko wynalezienia technologii, ale także zaprojektowania, wyprodukowania i zainstalowania nowej linii produkcyjnej. Wytwarzanie chipów przy wykorzystaniu EUV rozpoczęło się w fabryce Samsunga S3 Fab w Hwaseong w Korei. "Komercjalizacja technologii EUV jest rewolucją dla przemysłu półprzewodników i będzie miała ogromny wpływ na nasze codzienne życie" - powiedział Peter Jenkins, wiceprezes ds. marketingu korporacyjnego w ASML. To własnie holenderska firma ASML wyprodukowała maszyny dla Samsunga. ASML jest obecnie największym na świecie dostawcą systemów fotolitograficznych dla przemysłu półprzewodników. Firma produkuje maszyny do produkcji układów scalonych.

Źródło: Samsung, SiliconAngle, Trumpf
0
Zgłoś błąd
Liczba komentarzy: 28

Komentarze:

x Wydawca serwisu PurePC.pl informuje, że na swoich stronach www stosuje pliki cookies (tzw. ciasteczka). Kliknij zgadzam się, aby ta informacja nie pojawiała się więcej. Kliknij polityka cookies, aby dowiedzieć się więcej, w tym jak zarządzać plikami cookies za pośrednictwem swojej przeglądarki.