litografia DUV

Jensen Huang mówi, że Chiny potrzebują tylko kilku lat, aby zbudować własne zaawansowane maszyny litograficzne. W podcaście All-In wskazał 2030 rok i stwierdził, że dla chińskiego przemysłu taki termin nie jest szczególnie odległy. Problem w tym, że między deklaracją a działającą maszyną klasy ASML znajduje się ogromny łańcuch technologii. Chiny mają już własne skanery DUV, ale ich produkcja dopiero się rozpędza, a projekt EUV wciąż pozostaje prototypem.

Chińska firma SiCarrier zaskoczyła uczestników targów Semicon China 2025, prezentując szeroką gamę zaawansowanych narzędzi do produkcji półprzewodników. Nowe technologie mogą znacząco wpłynąć na zdolność Chin do produkcji zaawansowanych chipów, zmniejszając zależność od zagranicznych dostawców. Jakie innowacje wprowadza SiCarrier i jakie mogą być ich konsekwencje dla globalnego rynku półprzewodników? Szczegóły w dalszej części newsa.