Nikon chce uderzyć w ASML ceną. Japończycy celują w segment ArF immersion, ale nie ruszają monopolu EUV

Bardzo ciekawie brzmi deklaracja Nikona, który chce odzyskać klientów TSMC nie za pomocą wielkiej rewolucji technologicznej, lecz starą, brutalnie skuteczną metodą, czyli niższą ceną. To ruch o tyle interesujący, że nie dotyczy segmentu EUV, gdzie Holendrzy trzymają wszystkich za gardło, ale litografii ArF immersion. A to nadal sprzęt niezbędny dla zaawansowanej produkcji, zwłaszcza przy multiple patterning, pamięciach i coraz bardziej złożonych układach 3D.

Nikon nie rzuca wyzwania ASML tam, gdzie Holendrzy są praktycznie nietykalni, czyli w EUV. Japończycy próbują odbić kawałek rynku niżej, w ArF immersion, gdzie cena nadal potrafi otworzyć drzwi do fabryki.

TSMC przedstawia najnowszy plan wydawniczy dla swoich litografii, uwzględniający procesy N2U, A14, A13 oraz A12

Według Nikkei Asia Nikon szykuje ofertę tańszą od ASML i rozmawia już z dużymi producentami chipów z USA oraz Azji. Stawka nie jest mała, bo ArF immersion wciąż przydaje się tam, gdzie EUV nie wystarcza albo zwyczajnie kosztuje za dużo. Nikon ma dziś w ręku skaner NSR-S636E o parametrach takich jak źródło światła o długości fali 193 nm, NA 1,35, rozdzielczość do 38 nm, overlay MMO (błąd wzajemnego pozycjonowania warstw między różnymi maszynami) do 2,1 nm i przepustowość co najmniej 280 wafli na godzinę. Firma podkreśla też wzrost produktywności o 10–15 proc. względem wcześniejszych konstrukcji. Na poziomie kosztów zakupu i utrzymania może to zrobić różnicę.

Samsung przekroczył 80 proc. uzysku na litografii 4 nm. Proces SF4X wraca do gry w akceleratorach AI

Problem z ASML polega na tym, że nawet jeśli Nikon urwie mu kilka kontraktów, Holendrzy nadal kontrolują najważniejszy odcinek rynku. Jak przypominaliśmy wcześniej, ASML pozostaje jedynym dostawcą systemów EUV, a nowy NXT:2100i dodatkowo wzmacnia ofertę DUV, poprawiając dokładność nakładania warstw między litografią DUV i EUV. Nikon może nacisnąć na marże w starszym, wciąż bardzo dochodowym segmencie, ale nie rozbroi przewagi ASML tam, gdzie powstają najbardziej zaawansowane procesy. Canon też próbuje wejść bokiem z nanoimprintem i obietnicą 14 nm linii odpowiadających klasie 5 nm, tylko że to nadal bardziej alternatywa eksperymentalna niż gotowy pogromca klasycznej fotolitografii. Dzięki temu możliwa będzie większa presja cenowa na sprzęt dla fabryk, a to może z czasem odciążyć koszty produkcji, ale nie liczmy, że od tego smartfony czy karty graficzne nagle stanieją.