ASML wyda nowe maszyny EUV, które umożliwią zejście poniżej litografii 2 nm. Intel planuje technologie 14A i 10A

O prawie Moore'a słyszał każdy, kto choć trochę interesuje się technologią. Niektórzy twierdzą, że jest martwe, jednak fakty są takie, że mniej więcej co dwa lata ASML wydaje nowe i coraz sprawniejsze maszyny litograficzne. Do 2026 holenderskie przedsiębiorstwo ma wydać nowe maszyny, które umożliwią zejście poniżej 2 nm. Tymczasem Intel planuje swoje najnowsze technologie.

ASML EXE:5000 maszyny, które umożliwią zejście poniżej litografii 2 nm w 2026 roku, będą 2.66 razy droższe od obecnie stosowanych urządzeń. Tymczasem Intel planuje swoje najnowsze technologie 14A i 10A.

Neuralink staje w obliczu śledztwa federalnego. Zarzuty dotyczą okrutnego traktowania zwierząt oraz braku BHP

Obecna rozdzielczość optyczna maszyn litograficznych umożliwia tworzenie układów scalonych do 2 nm, aby przekroczyć tę granicę, sprzęt wymaga modernizacji. ASML wprowadzi na rynek w 2026 roku nową generację maszyny do litografii EUV serii EXE:5000 z technologią High NA. Nowoczesne urządzenia poprawią rozdzielczość fotolitografii z obecnie używanych 0.33 do 0.55, co powinno dać możliwości tworzenia układów aż do 0.8 nm. Niestety wraz z większym zaawansowaniem maszyn idzie również ich duża cena. Koszt jednej sztuki wzrośnie z obecnych 150 mln dolarów do 400 mln dolarów za urządzenie nowej generacji.

Dyrektor generalny Intela: straciliśmy wizję i udziały w rynku, a TSMC nas wyprzedziło. Jak firma planuje odzyskać prym?

Intel jak pisaliśmy pod powyższym linkiem, planuje odzyskać prym na rynku procesorów. Dlatego już rozpoczęto definiowanie i planowanie rozwoju kolejnych dwóch generacji procesów 14A i 10A, przy użyciu nowych maszyn ASML. W przypadku procesu 14 angstremów mówimy o litografii 1.4 nm, która powinna się pojawić w roku 2026. W przypadku technologii 10 angstremów, która powinna mieć gęstość dochodzącą do 1 nm, a jej gotowość do produkcji datowana jest na rok 2028. Na poniższej grafice od instytucji IMEC znajdziecie planowany rozwój miniaturyzacji tranzystorów do roku 2036.